安徽广树半导体设备有限公司
主营:马弗炉; 管式炉; 退火炉; 气氛炉; 
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详细介绍

项目指标值

使用气氛 (惰性保护气氛)

温度 750℃

控制精度 ≤1℃

温度均匀度 ≤±3℃

有效加热尺寸 500×260×260mm(含层架)

整机功率 17KW

温度测量 K 分度热电偶

层架配置 标配 1 个固定层架(13 层),支持选配定制托盘 / 客户自行加工

升温速率 ≥85℃/h(可任意调节)

降温速率 ≥30℃/h(可任意调节)

工艺存储 预设 8 个产品工艺,每个工艺支持 12 步程序设定

核心产品优势

1. 惰性气氛保护,杜绝氧化风险

全程气氛环境,可有效隔绝氧气,防止工件在高温下氧化、脱碳,特别适配对表面状态要求高的精密零部件、电子材料热处理需求。

2. 控温,工艺**性拉满

搭配 K 分度热电偶,实现≤1℃的控制精度,配合≤±3℃的炉内温度均匀度,**每层工件受热均匀,批次间工艺结果稳定,大幅降低不良率。

3. 宽幅温区可调,适配多场景工艺

工作温度达 750℃,升温速率≥85℃/h、降温速率≥30℃/h 且均可任意调节,可灵活匹配不同材料的升温 - 保温 - 降温工艺曲线,满足多样化生产需求。

4. 大容量分层设计,高效适配批量生产

有效加热尺寸 500×260×260mm,标配 13 层固定层架,支持选配定制托盘或客户自行加工,可一次性完成多批次工件热处理,大幅提升生产效率。

5. 多工艺程序预设,操作便捷省心

设备支持预设 8 个独立产品工艺,每个工艺可设置 12 步程序段,工艺人员可提前设定升温、保温、降温等参数,一键调用,减少人工操作误差,适配标准化、规模化生产流程。

联系方式
安徽广树半导体设备有限公司
联系人: 王* 先生  
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