详细介绍
双电子束蒸发镀膜机 OTFC-1800CBI/DBI
机械特点：
真空室尺寸：Φ600-1800mm
60点/80点式光学膜厚监控
使用均匀分布的高离子电流密度的离子源
搭载双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上
利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程
工件架可选择钟罩式或行星式
排气系统可选择扩散泵+低温冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵
设备尺寸：
设备型号 OTFC-1800CBI/DBI
真空室 SUS304, φ1800mm×1920mm (H)
工件架 φ1600mm
工件架转速 10rpm to 30rpm(可变)
光学膜厚控制 HOM2-R-VIS3**光学膜厚监控仪
波长范围：350nm to 1100n
反射式或透射式
石英晶振膜厚计 XTC/3+6点式石英晶体传感器
蒸发源 电子枪2套
离子源 23cmRF离子源
排气系统 机械泵+2个扩散泵+Polycold（或2个冷凝泵）
机械性能：
达到压力 7.0×10-5 Pa 以下
排气时间 20分（大气压～1.3×10-3 Pa)
基板温度 **：350℃
设备尺寸 约5700mm(W)×7700mm(D)×4000mm(H)
工作条件：
电源 3相, 200V, 50/60Hz, 约150kVA
水流量 180升/分以上
空气压力 0.5MPa以上
重量 约11200kg
详情 杨经理18103045976/13723521401
联系方式
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