一． 设备简介
半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、中国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。 宏洁水务在满足用户用水标准的基础上，在设备系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，**做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
二． 设计标准及依据
1. 根据用户提供的详细水质报告“量身定制”。
2. 水处理设备技术条件《JB/T 2932-1999》
3. 反渗透水处理设备标准《CJ/T119-2000》
4. 低压开关设备和控制设备成套装置《IEC439-1 》
5. 实验室超纯水技术指标标准《GB6682-2008 》
6. 电子级超纯水规格《GB/T11446.1-1997》
三． 工艺流程
1、 原水－原水加压泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－精密过滤器－级反渗透－PH调节－中间水箱－级反渗透－纯化水箱－纯水泵－EDI系统－超纯水箱－纯水泵－抛光装置－终端超滤－用水点
四． 设计特点
1. 系统采用全自动控制(同时亦可采用手动控制），系统运行时可设定自动反洗、再生程序；
2. 各单元接线均在工厂内完成，减少安装调试时间；
3. **反渗透和二级反渗透设有回流管道，反渗透设备设有化学清洗装置；
4. 管道一般采用UPVC材质；
5. 集成控制系统和集成仪表系统等，方便操作管理；
6. RO膜定时清洗 具有开机和定时清洗RO
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